基本信息
| 标准名称： | 硅外延片 |
| 英文名称： | Silicon epitaxial wafers |
| 中标分类： | 冶金 >> 半金属与半导体材料 >> 半金属 |
| ICS分类： | |
| 替代情况： | 被GB/T 14139-2009代替 |
| 发布部门： | 国家技术监督局 |
| 发布日期： | 1993-02-06 |
| 实施日期： | 1993-10-01 |
| 首发日期： | 1993-02-06 |
| 作废日期： | 2010-06-01 |
| 主管部门： | 国家标准化管理委员会 |
| 归口单位： | 全国半导体材料和设备标准化技术委员会 |
| 起草单位： | 上海第二冶炼厂 |
| 出版社： | 中国标准出版社 |
| 出版日期： | 1900-01-01 |
| 页数： | 平装16开， 页数：8， 字数：11千字 |
适用范围
本标准规定了硅外延片的产品分类、技术要求、试验方法和检验规则及标志、包装、运输、贮存。本标准适用于在N型硅抛光片衬底上生长的N型外延层(N/N+)和在P型硅抛光片衬底上生长的P型外延层(P/P+)的同质硅外延片。产品用于制作半导体器件。
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所属分类： 冶金 半金属与半导体材料 半金属